تشتد الحرب الإلكترونية بين الولايات المتحدة والصين، بعد أن كشفت تقارير حديثة عن اقتراب بكين من تحقيق الاكتفاء الذاتي في إنتاج أشباه الموصلات المتقدمة. وأوضح التقرير أن العائق الأساسي أمام قدرة الصين على تصنيع معالجات منافسة يكمن في الحظر المفروض على شحن آلات الطباعة الحجرية بالأشعة فوق البنفسجية الشديدة (EUV) إلى مصانعها الكبرى مثل SMIC، ثالث أكبر مصنع للرقائق في العالم.

من جانب آخر، تُعد آلات الطباعة الحجرية EUV ضرورية لنقل تكنولوجيا الرقائق من عقدة 10 نانومتر إلى 2 نانومتر، وهي التقنية التي تسمح بتقليص حجم الترانزستورات وزيادة عددها داخل الشريحة الواحدة، ما يؤدي إلى تحسين الأداء وكفاءة استهلاك الطاقة. وتكمن أهمية هذه الآلات في قدرتها الفائقة على طباعة أنماط إلكترونية أدق من شعرة الإنسان على رقائق السيليكون، وهي مرحلة أساسية في تصنيع معالجات التطبيقات الحديثة.

علاوة على ذلك، تُعتبر شركة ASML الهولندية الجهة الوحيدة عالميًا القادرة على تصنيع آلات الطباعة الحجرية بتقنية EUV، وقد منعت من تصدير هذه التكنولوجيا إلى الصين بموجب قرارات مشتركة من الولايات المتحدة وهولندا. وعلى الرغم من ذلك، لا تزال الشركات الصينية مثل SMIC قادرة على استيراد آلات طباعة حجرية بتقنية DUV الأقدم، مما يمكنها من تصنيع رقائق بمعمارية تصل إلى 7 نانومتر.

وفي تطور مثير، تشير الشائعات إلى أن الصين قد تحقق قريباً اختراقاً عبر تطوير آلة EUV محلية، بفضل جهود يقودها لين نان، الخبير السابق في ASML، بالتعاون مع معهد شنجهاي للبصريات والميكانيكا الدقيقة. وإذا تأكدت هذه الأنباء، فقد تمثل هذه الخطوة تحولاً جذريًا في معادلة القوة العالمية في مجال تصنيع أشباه الموصلات.